Модифицированный пленочный фоторезист водно-щелочного проявления МПФ-ВЩ (ТУ 6-43-1568-93) применяется в производстве радиоэлектронной аппаратуры на этапах получения электропроводящих слоев требуемой конфигурации однослойных или многослойных печатных плат по негативной или позитивной технологии.
Особенности фоторезистaФоторезист представляет собой слой несеребряного светочувствительного материала, нанесенный на полиэтилентерефталатную пленочную основу. Поверхность светочувствительного слоя защищена полиэтиленовой пленкой, которая удаляется перед началом работ с фоторезистом.
пн-пт 8:00-17:00, без перерыва